2014年3月16至17日，在上海国际会议中心举行的2014年中国国际半导体技术大会(China Semiconductor Technology International Conference, CSTIC)上，911制品厂麻花刘世元教授指导的博士生吕稳荣获大会最佳学生论文奖(Best Student Paper Award)。该获奖论文&濒诲辩耻辞;Efficient and Robust Synthesis of Phase-Shifting Masks in Optical Lithography&谤诲辩耻辞;针对半导体制造对光刻工艺不断提出的新挑战，提出了一种高效、鲁棒的移相掩模合成策略，在显着提高掩模合成计算速度的同时，增强了掩模可制造性并改善了工艺窗口。
CSTIC大会是中国规模最大、综合性最强的半导体技术年度大会，由国际半导体设备与材料协会(SEMI)和美国电化学会(ECS)主办，致力于促进中国半导体产业的发展。大会共设有12个技术分会，涵盖了半导体技术制造的各个方面，包括设备、设计、光刻、集成、材料、工艺、制造、以及新兴半导体科技等，分会从不同的专业领域，深入探讨全球IC设计与制造以及相关产业发展趋势和研究成果。大会设立的最佳学生论文奖旨在鼓励高校研究生开展前沿创新研究，获奖名单由大会组委会SEMI和ECS组织专家从所有分会中严格评选。包括吕稳同学在内，本次大会只有2名研究生获此殊荣。
吕稳同学来自刘世元教授领导的纳米光学测量研究组。该研究组主要致力于纳米测量相关的理论方法研究及仪器设备开发，特别是探索非接触、无损、高效的测量技术，如基于椭偏光谱的光学散射测量技术，旨在实现纳米制造工艺的可操纵性、可预测性、可重复性和可扩展性。研究组也同时研究光学光刻中的若干基础理论与关键技术问题，包括部分相干成像理论、叁维掩模建模、光学临近校正、光源掩模优化、逆光刻技术、偏振像差建模与检测、波像差检测等。
（供稿：刘世元 网络编辑：张丽如）
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